在半導(dǎo)體、生物醫(yī)藥、精密光學(xué)及航空航天等高潔凈度行業(yè)中，對(duì)零部件、設(shè)備乃至生產(chǎn)環(huán)境的清潔度要求極為嚴(yán)苛。任何微小的顆粒、有機(jī)殘留或金屬離子污染都可能導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降、性能失效甚至安全事故。因此，高效、可靠且符合國(guó)際潔凈標(biāo)準(zhǔn)的清洗系統(tǒng)成為這些行業(yè)的關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施。PCC61-KC清洗系統(tǒng)正是為應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)而設(shè)計(jì)，憑借其先進(jìn)的技術(shù)架構(gòu)、精準(zhǔn)的工藝控制和高度的自動(dòng)化能力，全面滿足高潔凈度行業(yè)的嚴(yán)苛需求。 首先，PCC61-KC系統(tǒng)采用多級(jí)過濾與超純水循環(huán)技術(shù)，確保清洗介質(zhì)本身的潔凈度達(dá)到ISO 14644-1 Class 5（百級(jí)）甚至更高標(biāo)準(zhǔn)。系統(tǒng)配備0.05μm精度的終端過濾器，并集成在線電阻率監(jiān)測(cè)裝置，實(shí)時(shí)監(jiān)控水質(zhì)電導(dǎo)率，確保清洗用水的離子含量低于0.1μS/cm。這種對(duì)清洗介質(zhì)的控制，有效避免了二次污染，為后續(xù)工藝提供了潔凈保障。
其次，該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，支持多種清洗工藝組合，包括超聲波清洗、兆聲波清洗、噴淋沖洗、真空干燥等。其中，兆聲波清洗技術(shù)頻率高達(dá)1 MHz，可在不損傷微結(jié)構(gòu)的前提下高效去除亞微米級(jí)顆粒，特別適用于晶圓、MEMS器件等精密元件的清洗。同時(shí)，PCC61-KC可根據(jù)不同材料（如硅片、玻璃、不銹鋼、鈦合金等）和污染物類型（顆粒、油脂、光刻膠殘留等）智能匹配清洗參數(shù)，實(shí)現(xiàn)“一物一策”的定制化清洗方案。
第三，PCC61-KC系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上嚴(yán)格遵循潔凈室兼容性原則。整機(jī)采用全不銹鋼316L材質(zhì)制造，內(nèi)腔表面經(jīng)過電解拋光處理，粗糙度Ra≤0.4μm，極大減少顆粒附著與微生物滋生風(fēng)險(xiǎn)。所有密封件均采用氟橡膠或全氟醚橡膠（FFKM），耐受強(qiáng)酸、強(qiáng)堿及有機(jī)溶劑，確保長(zhǎng)期運(yùn)行下的化學(xué)穩(wěn)定性與潔凈完整性。此外，系統(tǒng)配備HEPA/ULPA高效空氣過濾單元，在干燥階段引入經(jīng)凈化的惰性氣體（如氮?dú)猓?，防止空氣中微粒在干燥過程中沉積于工件表面。
在自動(dòng)化與智能化方面，PCC61-KC搭載PLC+HMI控制系統(tǒng)，支持全流程參數(shù)記錄、追溯與遠(yuǎn)程監(jiān)控。用戶可通過觸摸屏設(shè)定清洗程序、查看實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)，并生成符合GMP/GLP規(guī)范的電子批記錄。系統(tǒng)還具備自診斷與報(bào)警功能，一旦檢測(cè)到水質(zhì)異常、液位不足或溫度偏差，將自動(dòng)暫停運(yùn)行并提示維護(hù)，最大限度降低人為操作失誤帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)。
更重要的是，PCC61-KC已通過多項(xiàng)國(guó)際認(rèn)證，包括CE、SEMI F57（半導(dǎo)體設(shè)備清洗標(biāo)準(zhǔn)）、ISO 13485（醫(yī)療器械質(zhì)量管理體系）等，充分證明其在高潔凈應(yīng)用場(chǎng)景中的合規(guī)性與可靠性。實(shí)際應(yīng)用案例顯示，在某12英寸晶圓廠中，使用PCC61-KC清洗后的顆粒殘留數(shù)量較傳統(tǒng)設(shè)備降低90%以上；在生物制藥灌裝線配件清洗中，內(nèi)毒素水平穩(wěn)定控制在<0.03 EU/mL，遠(yuǎn)優(yōu)于藥典要求。
PCC61-KC清洗系統(tǒng)通過高純介質(zhì)控制、先進(jìn)清洗技術(shù)、潔凈結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、智能過程管理以及嚴(yán)格合規(guī)認(rèn)證，構(gòu)建了一套高效率、可驗(yàn)證的潔凈清洗解決方案。
更新時(shí)間：2025-11-21
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